干法刻蝕機 半導(dǎo)體刻蝕設(shè)備，刻蝕機工廠
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產(chǎn)品型號：IBE350
產(chǎn)品代碼：
產(chǎn)品價格：350000
計量單位：臺
折 扣 率： 0
最后更新：2025-09-22
關(guān) 注 度：1103
生產(chǎn)企業(yè)：四川超邁智能裝備有限公司
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產(chǎn)品詳細介紹IBE350干法刻蝕設(shè)備
刻蝕設(shè)備在半導(dǎo)體行業(yè)中占據(jù)著至關(guān)重要的地位，可以實現(xiàn)納米級的精密刻蝕。對復(fù)雜微結(jié)構(gòu)的器件加工，微電子器件的制造提供重要支持，在芯片領(lǐng)域發(fā)揮著關(guān)鍵作用。
設(shè)備尺寸：1200*1500*1800mm。
極限真空：優(yōu)于≤8.0×10-5Pa。
樣品尺寸：6英寸向下兼容。
刻蝕類型：物理刻蝕。
刻蝕氣體：Ar、O2。
刻蝕氣體流量：0~100sccm。
離子源類型：考夫曼直流離子源，角度可調(diào)。 |
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| 會員級別：免費會員 |
| 加入時間：2025-09-22
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